MOS və ya SBD İstehsal Tədqiqatı və Dummy dərəcəli üçün 6 düym 150 mm Silikon Karbid SiC Gofret 4H-N növü

MOS və ya SBD İstehsal Tədqiqatı üçün 6 düym 150 mm Silikon Karbid SiC Gofret 4H-N növü və Dummy dərəcəli Seçilmiş Şəkil

Qısa Təsvir:

6 düymlük silisium karbid monokristal substrat əla fiziki və kimyəvi xassələrə malik yüksək performanslı materialdır.Yüksək təmizlikdə silisium karbid monokristal materialdan istehsal olunub, üstün istilik keçiriciliyi, mexaniki dayanıqlıq və yüksək temperatura davamlılıq nümayiş etdirir.Dəqiq istehsal prosesləri və yüksək keyfiyyətli materiallarla hazırlanmış bu substrat müxtəlif sahələrdə yüksək səmərəli elektron cihazların istehsalı üçün üstünlük verilən materiala çevrilmişdir.

Bizə e-poçt göndərin

Məhsul təfərrüatı

Məhsul Teqləri

Tətbiq Sahələri

6 düymlük silisium karbid monokristal substratı bir çox sənayedə mühüm rol oynayır.Birincisi, yarımkeçiricilər sənayesində güclü tranzistorlar, inteqral sxemlər və güc modulları kimi yüksək güclü elektron cihazların istehsalı üçün geniş istifadə olunur.Yüksək istilik keçiriciliyi və yüksək temperatur müqaviməti daha yaxşı istilik yayılmasına imkan verir, nəticədə səmərəlilik və etibarlılıq artır.İkincisi, silisium karbid vafliləri yeni materialların və cihazların inkişafı üçün tədqiqat sahələrində vacibdir.Bundan əlavə, silisium karbid vaflisi LED və lazer diodlarının istehsalı da daxil olmaqla optoelektronika sahəsində geniş tətbiqlər tapır.

Məhsulun spesifikasiyası

6 düymlük silisium karbid monokristal substratın diametri 6 düymdür (təxminən 152,4 mm).Səthin pürüzlülüyü Ra < 0,5 nm, qalınlığı isə 600 ± 25 μm-dir.Substrat müştəri tələblərinə əsasən N tipli və ya P tipli keçiriciliklə fərdiləşdirilə bilər.Üstəlik, təzyiq və vibrasiyaya tab gətirə bilən müstəsna mexaniki dayanıqlıq nümayiş etdirir.

Diametr		150±2.0mm（6inch）
Qalınlıq		350 μm±25μm
Orientasiya		Oxda: <0001>±0,5°		Off ox: 4.0° - 1120±0.5°
Politip		4H
Müqavimət (Ω·sm)	4H-N	0,015~0,028 Ω·sm/0,015~0,025ohm·sm
	4/6H-SI	>1E5
İlkin düz oriyentasiya		{10-10}±5,0°
Əsas düz uzunluq (mm)		47,5 mm±2,5 mm
Kənar		pax
TTV/Yay/Çürük (um)		≤15 /≤40 /≤60
AFM Ön (Si-üz)		Polyak Ra≤1 nm
		CMP Ra≤0.5 nm
LTV		≤3μm(10mm*10mm)	≤5μm(10mm*10mm)		≤10μm (10mm*10mm)
TTV		≤5μm	≤10μm		≤15μm
Portağal qabığı / çuxurlar / çatlar / çirklənmə / ləkələr / zolaqlar		Heç biri	Heç biri		Heç biri
girintilər		Heç biri	Heç biri		Heç biri

6 düymlük silisium karbid monokristal substratı yarımkeçirici, tədqiqat və optoelektronika sənayelərində geniş istifadə olunan yüksək performanslı materialdır.Mükəmməl istilik keçiriciliyi, mexaniki dayanıqlıq və yüksək temperatur müqaviməti təklif edir ki, bu da onu yüksək güclü elektron cihazların istehsalı və yeni material araşdırması üçün əlverişli edir.Müxtəlif müştəri tələblərinə cavab vermək üçün müxtəlif spesifikasiyalar və fərdiləşdirmə variantları təqdim edirik.Silikon karbid vaflilər haqqında ətraflı məlumat üçün bizimlə əlaqə saxlayın!