Safir SiC Si üçün İon Şüası Cilalama Maşını

Qısa Təsvir:

İon Şüasının Formalaşdırılması və Cilalanması Maşını ion püskürtmə prinsipinə əsaslanır. Yüksək vakuumlu kameranın içərisində ion mənbəyi plazma yaradır və bu plazma yüksək enerjili ion şüasına sürətlənir. Bu şüa optik komponentin səthini bombardman edir, ultra dəqiq səth korreksiyası və tamamlanması üçün atom miqyasında materialı çıxarır.

Bizə e-poçt göndərin

Xüsusiyyətlər

Ətraflı Diaqram

İon Şüası Cilalama Maşınının Məhsul Baxışı

Təmassız bir proses olaraq, ion şüası cilalanması mexaniki gərginliyi aradan qaldırır və yeraltı zədələnmənin qarşısını alır, bu da onu astronomiya, aerokosmik, yarımkeçiricilər və qabaqcıl tədqiqat tətbiqlərində istifadə olunan yüksək dəqiqlikli optika istehsalı üçün ideal hala gətirir.

İon Şüası Cilalama Maşınının İş Prinsipi

İon Nəsli
İnert qaz (məsələn, argon) vakuum kamerasına daxil edilir və plazma əmələ gətirmək üçün elektrik boşalması vasitəsilə ionlaşır.

Sürətlənmə və Şüanın Formalaşması
İonlar bir neçə yüz və ya minlərlə elektron volta (eV) qədər sürətlənir və sabit, fokuslanmış şüa nöqtəsinə çevrilir.

Materialın çıxarılması
İon şüası kimyəvi reaksiyalara başlamadan atomları səthdən fiziki olaraq püskürdür.

Səhv Aşkarlanması və Yol Planlaması
Səth fiqurlarının sapmaları interferometriya ilə ölçülür. Qaldırma funksiyaları gözləmə müddətlərini təyin etmək və optimallaşdırılmış alət yollarını yaratmaq üçün tətbiq olunur.

Qapalı Dövrə Düzəlişi
RMS/PV dəqiqlik hədəflərinə çatana qədər təkrarlanan emal və ölçmə dövrləri davam edir.

İon Şüası Cilalama Maşınının Əsas Xüsusiyyətləri

Universal Səth Uyğunluğu– Düz, sferik, asferik və sərbəst formalı səthləri emal edir

Ultra-Stabil Silinmə Sürəti– Nanometrdən aşağı rəqəm düzəlişini təmin edir

Zərərsiz emal– Yeraltı qüsurlar və ya struktur dəyişiklikləri yoxdur

Ardıcıl Performans– Müxtəlif sərtlikdəki materiallarda eyni dərəcədə yaxşı işləyir

Aşağı/Orta Tezlik Korreksiyası– Orta/yüksək tezlikli artefaktlar yaratmadan səhvləri aradan qaldırır

Aşağı Baxım Tələbi– Minimal dayanma müddəti ilə uzunmüddətli fasiləsiz işləmə

İon Şüası Cilalama Maşınının Əsas Texniki Xüsusiyyətləri

Məhsul	Xüsusiyyət
Emal üsulu	Yüksək vakuum mühitində ion püskürməsi
Emal Növü	Təmassız səth fiqurasiyası və cilalanması
Maksimum İş Parçası Ölçüsü	Φ4000 mm
Hərəkət oxları	3 oxlu / 5 oxlu
Çıxarılma Sabitliyi	≥95%
Səth Dəqiqliyi	PV < 10 nm; RMS ≤ 0.5 nm (tipik RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Tezlik Korreksiyası Qabiliyyəti	Orta/yüksək tezlikli səhvlər yaratmadan aşağı-orta tezlikli səhvləri aradan qaldırır
Davamlı Əməliyyat	Vakuum baxımı olmadan 3-5 həftə
Texniki xidmət xərcləri	Aşağı

İon Şüası Cilalama Maşınının Emal Qabiliyyətləri

Dəstəklənən Səth Növləri

Sadə: Düz, sferik, prizma

Kompleks: Simmetrik/asimmetrik asfer, oxdan kənar asfer, silindrik

Xüsusi: Ultra nazik optika, lateral optika, yarımkürəvi optika, konformal optika, faz lövhələri, sərbəst formalı səthlər

Dəstəklənən Materiallar

Optik şüşə: Kvars, mikrokristal, K9 və s.

İnfraqırmızı materiallar: germanium, silisium və s.

Metallar: Alüminium, paslanmayan polad, titan ərintisi və s.

Kristallar: YAG, tək kristal silikon karbid və s.

Sərt/kövrək materiallar: Silikon karbid və s.

Səth Keyfiyyəti / Dəqiqlik

PV < 10 nm

RMS ≤ 0.5 nm

İon Şüası Cilalama Maşınının İşlənmə Tədqiqatları

1-ci hal – Standart Düz Güzgü

İş parçası: D630 mm kvars düz

Nəticə: PV 46.4 nm; RMS 4.63 nm

2-ci hal – Rentgen əks etdirici güzgü

İş parçası: 150 × 30 mm silikon düz

Nəticə: PV 8.3 nm; RMS 0.379 nm; Maili 0.13 µrad

3-cü hal – Oxdan kənar güzgü

İş parçası: D326 mm oxdan kənar yer güzgüsü

Nəticə: PV 35.9 nm; RMS 3.9 nm

Kvars Eynəkləri ilə bağlı Tez-tez Verilən Suallar

Tez-tez verilən suallar – İon Şüası Cilalama Maşını

S1: İon şüası ilə cilalama nədir?
A1:İon şüası ilə cilalama, iş parçasının səthindən materialı çıxarmaq üçün fokuslanmış ion şüasından (məsələn, argon ionları) istifadə edən təmassız bir prosesdir. İonlar sürətləndirilir və səthə doğru yönəldilir, atom səviyyəsində materialın çıxarılmasına səbəb olur və nəticədə ultra hamar bir nəticə əldə edilir. Bu proses mexaniki gərginliyi və yeraltı zədələnməni aradan qaldırır və dəqiq optik komponentlər üçün ideal hala gətirir.

S2: İon Şüası Cilalama Maşını hansı növ səthləri emal edə bilər?
A2:Theİon Şüası Cilalama Maşınıkimi sadə optik komponentlər də daxil olmaqla müxtəlif səthləri emal edə bilərdüzlər, kürəciklər və prizmalar, eləcə də mürəkkəb həndəsələr kimiasferlər, oxdan kənar asferlərvəsərbəst formalı səthlərXüsusilə optik şüşə, infraqırmızı optika, metallar və sərt/kövrək materiallar kimi materiallarda təsirlidir.

S3: İon Şüası Cilalama Maşını hansı materiallarla işləyə bilər?
A3:Theİon Şüası Cilalama Maşınıo cümlədən geniş çeşiddə materialları cilalaya bilər:

Optik şüşə: Kvars, mikrokristal, K9 və s.
İnfraqırmızı materiallar: Silisium, germanium və s.
Metallar: Alüminium, paslanmayan polad, titan ərintisi və s.
Kristal materiallarYAG, tək kristal silikon karbid və s.
Digər sərt/kövrək materiallar: Silikon karbid və s.

Haqqımızda

XKH xüsusi optik şüşə və yeni kristal materiallarının yüksək texnologiyalı inkişafı, istehsalı və satışı üzrə ixtisaslaşıb. Məhsullarımız optik elektronika, istehlakçı elektronikası və hərbçilərə xidmət göstərir. Biz Sapphire optik komponentləri, mobil telefon linza örtükləri, keramika, LT, silikon karbid SIC, kvars və yarımkeçirici kristal lövhələr təklif edirik. Bacarıqlı təcrübə və qabaqcıl avadanlıqlarla, aparıcı optoelektron materialları yüksək texnologiyalı müəssisə olmağı hədəfləyərək qeyri-standart məhsul emalı sahəsində üstünlüyümüz var.